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半導體行業產生的特種氣體有哪些(半導體特種氣體種類)

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半導體屬于高新技術產業,往往被誤解為“清潔”產業,但事實上,在清洗、光刻、去膠、烘干等工藝中需使用大量的酸、堿及有機溶劑和多種特殊氣體,整個生產過程三廢產量大、種類多。半導體工業用氣體具有品種多、質量要求高、用量少等特點,大部分是有毒或腐蝕性氣體,品種高達百余種。本文將介紹半導體行業產生的特種氣體有哪些?

半導體特種氣體種類

半導體工業特種氣體按照應用分類,主要包括:

1、硅族氣體:含硅基的硅烷類,如硅烷(SiH4)、二氯二氫硅(SiH2Cl2)、乙硅烷(Si2H6)等。

2、摻雜氣體:含硼、磷、砷等三族及五族原子之氣體,如三氯化硼(BCl3)、三氟化硼(BF3)、磷烷(PH3)、砷烷(AsH3)等。

3、蝕刻清洗氣體:以含鹵素的鹵化物及鹵碳化合物為主,如氯氣(Cl2)、三氟化氮(NF3)、溴化氫(HBr)、四氟化碳(CF4)、六氟乙烷(C2F6)等

4、反應氣體:以碳系及氮系氧化物為主,如二氧化碳(CO2)、氨(NH3)、氧化亞氮(N2O)等。

5、金屬氣相沉積氣體:含鹵化金屬及有機烷類金屬,如六氟化鎢(WF6)、三甲基鎵(Ga(CH3)3)等。

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