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半導體廢氣處理方法_電子半導體廠廢氣處理方法有哪些?

環保領域專家
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  • 擅長:14年廢氣治理經驗,提供方案及設備,助力企業廢氣達標排放

半導體行業中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分,在工藝過程中,這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。其廢氣的主體是VOCs,同時廢氣中還混合了HCl、氨、HF等危險污染物,分離和處理難度比較大。下面格林斯達環保公司為您介紹半導體廢氣處理方法:

半導體酸廢氣處理方法

半導體酸廢氣處理通常采用堿液體噴淋法,又稱化學洗滌法。因液體自身具有的溶解特性,可以更好地捕捉沉降,溶解去除污染物,而達到大氣排放標準,故噴淋法是半導體行業酸堿廢氣治理普遍采用的主要處理方法。

新材料行業半導體廢氣處理的方法

新材料行業與傳統材料相比,新材料產業具有技術高度密集,研究與開發投入高,產品的附加值高,生產與市場的國際性強,以及應用范圍廣,發展前景好等特點,其研發水平及產業化規模已成為衡量一個國家經濟,社會發展,科技進步和國防實力的重要標志,世界各國特別是發達國家都十分重視新材料產業的發展。

作為新材料產業的代表之一,半導體工藝對操作室清潔度要求極高,通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣,因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。這些廢氣排放主要可以分為四類:酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣和有毒氣體。

RTO蓄熱式焚燒爐設備,簡稱“RTO設備”,是采用高溫破壞焚燒的廢氣治理技術。采用的升溫能源一般是電和天然氣,雖然采用高溫700℃的溫度進行廢氣處理,但其實消耗的能源并不多,這是因為設備能夠將熱能回收利用,大大降低能量消耗的同時提高了廢氣分子的燃燒反應速率。設備的主體由燃燒室、陶瓷填料床和轉換閥等構成。設備的凈化效率也維持穩定在99%以上。

RTO設備

半導體行業廢氣處理方法以及對比

半導體行業有機廢氣處理方法,通常先用沸石轉輪對VOCs進行吸附濃縮之后,再用直接燃燒法進行銷毀,廢氣凈化率達到97%以上。

直接燃燒又稱為直接火焰燃燒,它是把VOCs可燃組分直接燒掉,因此該方法適用于凈化可燃有害組分濃度較高的廢氣,或者凈化有害組分燃燒時熱值較高的廢氣;多種可燃氣體或多種溶劑蒸氣混合在廢氣中,只要濃度值適宜,也可以直接燃燒。如果可燃組分的濃度高于燃燒上限,可以混入空氣后燃燒;如果可燃組分的濃度低于燃燒下限,則可以加入一定數量的輔助燃料如天然氣等,維持燃燒。


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