半導體廢氣處理設備

半導體行業產生的廢氣通過分類密閉收集處理,有酸性廢氣、堿性廢氣、有機廢氣、有毒有害廢氣、一般尾氣等。不同類型的…【查看應用案例

產品價格:非標品

產品品牌:GREENSTAR

生產廠家:安徽格林斯達環保設備有限公司

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設備介紹

半導體行業產生的廢氣通過分類密閉收集處理,有酸性廢氣、堿性廢氣、有機廢氣、有毒有害廢氣、一般尾氣等。不同類型的廢氣所選用的半導體環保設備有所不同。處理系統有機臺端的POU本地處理和廠務端(Fab)中央處理系統;如熱氧化、CVD、干法刻蝕、離子注入等工藝制程中會產生特性氣體(硅烷、砷烷、磷烷、全氟烴、含鹵素氣體等有毒和高沸點廢氣),先經本地Local Scrubber預處理,后經入廠務端的中央處理系統集中處理。 中央處理系統集中處理有酸性廢氣處理系統(SEX)、堿性廢氣處理系統(AEX)、有機廢氣處理系統(VEX)、砷排處理系統(ASX)、一般排氣系統(GEX)等,其中一般排氣系統所排廢氣無污染,起排風散熱作用。

半導體 Local Scrubber 預處理設備

Local Scrubber預處理可避免從排氣過程中引發風管堵塞、管路腐蝕、局部聚積或氣體相互反應,導致氣體泄漏、火災爆炸等事故。 Local Scrubber的處理方法有燃燒水洗、高溫水洗、等離子水洗、干法吸附等。經Local Scrubber處理后的廢氣主要為氟化物、氯化氫、氯氣等,進入廠務端酸性廢氣系統集中處理。

Local Scrubber

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半導體酸性/堿性廢氣處理設備

半導體行業酸性廢氣來源于清洗、濺射、濕法刻蝕、濕法去膠和經Local Scrubber處理后的工藝廢氣,其主要組成為HF、HCl、Cl2、H2SO4、SO2等;堿性廢氣主要來源于清洗、濕法刻蝕、光刻顯影、去膠、CMP等工藝,污染物為NH3、NaOH等。堿性廢氣處理工藝也采用噴淋洗滌處理,常用吸收液為H2SO4溶液。

立式廢氣洗滌塔

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酸性/堿性廢氣洗滌塔分為臥室和立式兩種結構,臥式洗滌塔一般適用對高度有限制的場地,而立式洗滌塔用于廠地面積有限但高度無限的項目上,其處理效率不受影響都可達98%。

臥式廢氣洗滌塔

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酸性/堿性洗滌塔采用pH值、液位值和電導值控制水箱中堿液的加入和補/排水的循環,通過測量液位控制補水,電導率控制排水;pH值控制堿液的加入。整個過程實現全自動化控制,免除人工加藥及檢測過程,操作方便,易于檢修。

半導體有機廢氣處理設備

半導體行業有機廢氣主要來源于清洗、CVD、光刻、濕法刻蝕、去膠及擴散等工藝;有機廢氣種類主要包括異丙醇、丙酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、重芳烴等。因半導體行業VOCs廢氣具有風量大,濃度低的特點,其風量通常大于11000m3/h,濃度大約在50~1000mg/m3之間(以非甲烷總烴計)所以常用的半導體有機廢氣處理技術即沸石濃縮轉輪+直接燃燒(TO),效率可達≥95%。

沸石轉輪+高溫氧化爐TO

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半導體有毒廢氣處理設備

含砷有毒有毒廢氣來源摻雜制程工序,包括砷烷、磷烷和硼烷。目前,隨著國家及各地區環保排放標準越來越嚴格,在含砷系統Local Scrubber預處理后在Fab中央端再次進行干式吸附,常用設備為砷磷烷吸附塔,吸附后通過末端風機負壓達標排放。 砷烷等與吸附劑發生化學吸附、復分解等反應,生成穩定的無毒無害的化合物,吸附劑是砷排系統的關鍵之重。

砷磷烷吸附塔

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格林斯達環保集團,工藝廢氣治理系統解決方案提供商,提供廢氣治理一站式服務(系統規劃、工藝設計、產品設計、設備生產及供貨、現場安裝集成、系統調試及智慧運維)。如您有廢氣處理設備需求,即刻聯系我們吧!服務熱線:138-1114-8535(同微信)/ 400-9655-098。

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